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激光测量核孔膜均匀度的装置

文献类型:专利

作者莫丹; 袁平; 刘杰; 曹殿亮; 刘建德; 张胜霞
发表日期2015-10-28
专利号CN204731151U
著作权人中国科学院近代物理研究所
国家中国
文献子类实用新型
英文摘要本实用新型涉及一种激光测量核孔膜均匀度的装置,其主要特点在于包括有支架,支架包括有水平支架和竖直支架,在竖直支架的上端设有激光器,在竖直支架的中部设有二维平移台,其二维平移台的台面为透明板:在水平支架上设有光探测器;激光器与光探测器在一个中心线上。本实用新型的优点是:采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息,可以根据不同的扫描方式,来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式,可以通过计算机编程,自动的进行获取,从而迅速得到样品的均匀度信息。
公开日期2015-10-28
申请日期2015-03-20
状态授权
源URL[http://119.78.100.186/handle/113462/60746]  
专题中国科学院近代物理研究所
作者单位中国科学院近代物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
莫丹,袁平,刘杰,等. 激光测量核孔膜均匀度的装置. CN204731151U. 2015-10-28.

入库方式: OAI收割

来源:近代物理研究所

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