用于光刻的EUV光源
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵环昱 ; 赵红卫 |
| 刊名 | 半导体技术
 |
| 出版日期 | 2007-01-03 |
| 卷号 | 2007期号:01页码:12-16 |
| 关键词 | 光刻 极紫外光源 放电等离子 激光等离子体 Ecr等离子体 |
| 通讯作者 | 赵环昱 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-10-29 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/2887]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵环昱,赵红卫. 用于光刻的EUV光源[J]. 半导体技术,2007,2007(01):12-16. |
| APA | 赵环昱,&赵红卫.(2007).用于光刻的EUV光源.半导体技术,2007(01),12-16. |
| MLA | 赵环昱,et al."用于光刻的EUV光源".半导体技术 2007.01(2007):12-16. |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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