高能~(136)Xe离子辐照聚酰亚胺化学改性的电子能损效应
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙友梅,朱智勇,金运范,王志光,侯明东 |
| 刊名 | 核技术
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| 出版日期 | 2004-03-10 |
| 卷号 | 2004期号:03页码:213-216 |
| 关键词 | 快重离子辐照 电子能损 聚酰亚胺 化学降解 |
| 通讯作者 | 孙友梅 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-10-29 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/3955]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙友梅,朱智勇,金运范,王志光,侯明东. 高能~(136)Xe离子辐照聚酰亚胺化学改性的电子能损效应[J]. 核技术,2004,2004(03):213-216. |
| APA | 孙友梅,朱智勇,金运范,王志光,侯明东.(2004).高能~(136)Xe离子辐照聚酰亚胺化学改性的电子能损效应.核技术,2004(03),213-216. |
| MLA | 孙友梅,朱智勇,金运范,王志光,侯明东."高能~(136)Xe离子辐照聚酰亚胺化学改性的电子能损效应".核技术 2004.03(2004):213-216. |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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