分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶
文献类型：期刊论文
| 作者 | 秦芝,郭俊盛,甘再国 |
| 刊名 | 同位素
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| 出版日期 | 2000-11-20 |
| 卷号 | 2000期号:04页码:209-214 |
| 关键词 | 分子镀 厚镅靶 ~(241 243)Am |
| 通讯作者 | 秦芝 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-10-29 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/4985]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 秦芝,郭俊盛,甘再国. 分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶[J]. 同位素,2000,2000(04):209-214. |
| APA | 秦芝,郭俊盛,甘再国.(2000).分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶.同位素,2000(04),209-214. |
| MLA | 秦芝,郭俊盛,甘再国."分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶".同位素 2000.04(2000):209-214. |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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