高电荷态ECR离子源
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵红卫,刘占稳,张汶,张雪珍,袁平,郭晓虹,张子民,王义芳 |
| 刊名 | 原子能科学技术
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| 出版日期 | 2000-05-20 |
| 卷号 | 2000期号:03页码:282-288 |
| 关键词 | Ecr离子源 高电荷态 束流强度 微波加热 磁镜场 |
| 通讯作者 | 赵红卫 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-10-29 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/5133]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵红卫,刘占稳,张汶,张雪珍,袁平,郭晓虹,张子民,王义芳. 高电荷态ECR离子源[J]. 原子能科学技术,2000,2000(03):282-288. |
| APA | 赵红卫,刘占稳,张汶,张雪珍,袁平,郭晓虹,张子民,王义芳.(2000).高电荷态ECR离子源.原子能科学技术,2000(03),282-288. |
| MLA | 赵红卫,刘占稳,张汶,张雪珍,袁平,郭晓虹,张子民,王义芳."高电荷态ECR离子源".原子能科学技术 2000.03(2000):282-288. |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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