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高电荷态离子与Si(110)晶面碰撞的沟道效应研究

文献类型:期刊论文

作者Peng, HB (Peng Hai-Bo) ; Wang, TS (Wang Tie-Shan) ; Han, YC (Han Yun-Cheng) ; Ding, DJ (Ding Da-Jie) ; Xu, H (Xu He) ; Cheng, R (Cheng Rui) ; Zhao, YT (Zhao Yong-Tao) ; Wang, YY (Wang Yu-Yu)
刊名物理学报
出版日期2008
卷号57期号:4页码:2161-2164
关键词Highly Charged Ions Sputtering Channeling Effect
ISSN号1000-3290
其他题名Study of channeling effect by impact of highly charged ions on crystal surface of Si(110)
语种中文
资助机构国家自然科学基金(批准号:10475035)资助的课题.
公开日期2010-10-29
源URL[http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/5643]  
专题近代物理研究所_近代物理研究所知识存储(2010之前)
推荐引用方式
GB/T 7714
Peng, HB (Peng Hai-Bo),Wang, TS (Wang Tie-Shan),Han, YC (Han Yun-Cheng),等. 高电荷态离子与Si(110)晶面碰撞的沟道效应研究[J]. 物理学报,2008,57(4):2161-2164.
APA Peng, HB .,Wang, TS .,Han, YC .,Ding, DJ .,Xu, H .,...&Wang, YY .(2008).高电荷态离子与Si(110)晶面碰撞的沟道效应研究.物理学报,57(4),2161-2164.
MLA Peng, HB ,et al."高电荷态离子与Si(110)晶面碰撞的沟道效应研究".物理学报 57.4(2008):2161-2164.

入库方式: OAI收割

来源:近代物理研究所

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