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80keV N离子注入对ZnO薄膜结构的影响;Effects of 80 keV N-ion Implantation on Structures of ZnO Films

文献类型:期刊论文

作者臧航 ; 王志光 ; 魏孔芳 ; 孙建荣 ; 姚存峰 ; 申铁龙 ; 马艺准 ; 杨成绍 ; 庞立龙 ; 朱亚斌
刊名原子核物理评论
出版日期2010-03-20
卷号27期号:01页码:87-91
关键词Zno薄膜 N离子注入 X射线衍射 透射电镜
语种中文
公开日期2011-04-20
源URL[http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/8049]  
专题近代物理研究所_近代物理研究所知识存储(2010之前)
推荐引用方式
GB/T 7714
臧航,王志光,魏孔芳,等. 80keV N离子注入对ZnO薄膜结构的影响;Effects of 80 keV N-ion Implantation on Structures of ZnO Films[J]. 原子核物理评论,2010,27(01):87-91.
APA 臧航.,王志光.,魏孔芳.,孙建荣.,姚存峰.,...&朱亚斌.(2010).80keV N离子注入对ZnO薄膜结构的影响;Effects of 80 keV N-ion Implantation on Structures of ZnO Films.原子核物理评论,27(01),87-91.
MLA 臧航,et al."80keV N离子注入对ZnO薄膜结构的影响;Effects of 80 keV N-ion Implantation on Structures of ZnO Films".原子核物理评论 27.01(2010):87-91.

入库方式: OAI收割

来源:近代物理研究所

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