The formation and characteristics of Si1-xCx alloys in Si crystals bymeans of implantation of cions with different doses
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wang ; YS ; Li ; JMJin ; YFWang ; YTLin |
| 刊名 | ACTA PHYSICA SINICA
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| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 49期号:11页码:2210-2213 |
| 关键词 | Si1-xcx Alloy Ion implantatIon Solid Phase Epitaxy |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| 通讯作者 | Wang, YS, Beijing Normal Univ, Dept Phys, Beijing 100875, Peoples R |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2011-08-26 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/10231]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang,YS,Li,et al. The formation and characteristics of Si1-xCx alloys in Si crystals bymeans of implantation of cions with different doses[J]. ACTA PHYSICA SINICA,2000,49(11):2210-2213. |
| APA | Wang,YS,Li,JMJin,YFWang,&YTLin.(2000).The formation and characteristics of Si1-xCx alloys in Si crystals bymeans of implantation of cions with different doses.ACTA PHYSICA SINICA,49(11),2210-2213. |
| MLA | Wang,et al."The formation and characteristics of Si1-xCx alloys in Si crystals bymeans of implantation of cions with different doses".ACTA PHYSICA SINICA 49.11(2000):2210-2213. |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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