电镀法制备Pa测量源
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李宗伟 ; 杨维凡 ; 方克明 ; 袁双贵 ; 郭俊盛 ; 潘强岩 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 1998-01-10 |
| 期号 | 01 |
| 关键词 | 镤源 化学分离 电镀法 Γ能谱分析法 |
| 英文摘要 | An electroplating method for the preparation of Pa sources is described, and themain factors (such as pH value of solution electroplating time and current density)influencing the electroplating of Pa are tested and discussed with 233Pa as a tracer. Athin and uniform electroplating Pa-Layer of 1mg/cm2 thick on thin stainless steeldisk was obtained. The Pa source was measured by HPGe detector to determine thechemical efficiency. |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:440838 |
| 资助机构 | 国家自然科学基金 |
| 公开日期 | 2011-09-23 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/11261]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李宗伟,杨维凡,方克明,等. 电镀法制备Pa测量源[J]. 核技术,1998(01). |
| APA | 李宗伟,杨维凡,方克明,袁双贵,郭俊盛,&潘强岩.(1998).电镀法制备Pa测量源.核技术(01). |
| MLA | 李宗伟,et al."电镀法制备Pa测量源".核技术 .01(1998). |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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