全反射X荧光分析及其应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 田宇紱 ; 王瑞光 ; 谭继廉 |
| 刊名 | 核物理动态
 |
| 出版日期 | 1995-09-30 |
| 期号 | 03 |
| 关键词 | 全反射 探测限 微量分析 掠射角 |
| 英文摘要 | In recent years a remarkable development has been achieved in total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) analysis techniques. The trace and ulera-trace analysis of elements has been made out from surface and near-surface layer to depth and depth profiling as well as layered structures. Absolute detectoion limits has come to pg-level and the least detection limits of 108atoms/cm2 can be reached for surface contamination on St wafers. The basic theory, characteristic, recent international advancement and pros... |
| 语种 | 中文 |
| 资助机构 | 国家自然科学基金 |
| 公开日期 | 2011-09-23 |
| 源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/11451]  |
| 专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储（2010之前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 田宇紱,王瑞光,谭继廉. 全反射X荧光分析及其应用[J]. 核物理动态,1995(03). |
| APA | 田宇紱,王瑞光,&谭继廉.(1995).全反射X荧光分析及其应用.核物理动态(03). |
| MLA | 田宇紱,et al."全反射X荧光分析及其应用".核物理动态 .03(1995). |
入库方式： OAI收割
来源：近代物理研究所
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