同步辐射X射线光刻计算机模拟研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 叶甜春 ; 谢常青
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 3页码:6，14-19 |
| 关键词 | X射线光刻 分辨率 同步辐射 计算机模拟 光刻 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 利用Ｂｅａｍ Ｐｒｏｐａｇａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ（ＢＰＭ）方法研究了深亚微米同步辐射Ｘ射线光刻中的掩模吸收体的光导波效应，并且利用瑞利－索末非理论对光刻胶表现的空间像光强分布进行了计算。研究结果表明基尔霍夫边界条件不宜用于计算０．２５μｍ以下光刻分辨率空间像光强分布。研究结果还表示北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线的光刻分辨率可以达到０．１μｍ，而且这时金吸收体厚度为０．４５μｍ就可以了，而不是通常认为的１.Oμｍ. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/558]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 叶甜春,谢常青. 同步辐射X射线光刻计算机模拟研究[J]. 微细加工技术,1997(3):6，14-19. |
| APA | 叶甜春,&谢常青.(1997).同步辐射X射线光刻计算机模拟研究.微细加工技术(3),6，14-19. |
| MLA | 叶甜春,et al."同步辐射X射线光刻计算机模拟研究".微细加工技术 .3(1997):6，14-19. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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