相移掩模的制作
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冯伯儒; 陈宝钦 |
| 刊名 | 微细加工技术
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 1页码:9，8-16 |
| 关键词 | 光学曝光 相移掩模 掩模制造 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 本文阐述相移掩模技术研究中，常用的几种主要相移掩模制作方法，重点介绍了无络ＰＳＭ、Ｌｅｖｅｎｓｏｎ交替型ＰＳＭ、边级ＰＳＭ、亚分辨辅助ＰＳＭ以及激光直写制作ＰＳＭ的方法。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/560]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯伯儒,陈宝钦. 相移掩模的制作[J]. 微细加工技术,1997(1):9，8-16. |
| APA | 冯伯儒,&陈宝钦.(1997).相移掩模的制作.微细加工技术(1),9，8-16. |
| MLA | 冯伯儒,et al."相移掩模的制作".微细加工技术 .1(1997):9，8-16. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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