超微细图形加工技术进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 田如江; 马俊如 |
| 刊名 | 真空科学与技术
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| 出版日期 | 1998 |
| 卷号 | 18期号:2页码:12，83-94 |
| 关键词 | 光刻 电子束曝光 纳米加工 超微细图形 |
| ISSN号 | 0253-9748 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 自１９５９年集成电路发明以来，它对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小３０％，集成规和工１倍，芯片价格随之下降的惊人 展。光刻技术的发展始终是集成电路发展的决定因素。本文综述了深亚微米光刻和纳米光刻技术。 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/566]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 田如江,马俊如. 超微细图形加工技术进展[J]. 真空科学与技术,1998,18(2):12，83-94. |
| APA | 田如江,&马俊如.(1998).超微细图形加工技术进展.真空科学与技术,18(2),12，83-94. |
| MLA | 田如江,et al."超微细图形加工技术进展".真空科学与技术 18.2(1998):12，83-94. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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