KrF准分子激光移相光刻在HEMT栅加工中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 钱鹤; 刘训春 |
| 刊名 | 固体电子学研究与进展
 |
| 出版日期 | 1998 |
| 卷号 | 18期号:1页码:7，94-100 |
| 关键词 | 移相光刻 深亚微米 Hemt 半导体制造工艺 |
| ISSN号 | 1000-3819 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 将ＫｒＦ准分子激光无铬接触式称相光刻应用于深亚微米ＨＥＭＴ栅图形加工，自行设计，组装了一套实验系统，很地解决了这一器件制作的关键工艺问题，分别采用石英版移相和衬底移相方式，可重复可靠地得到剖面陡直的（０．３０－０．３５）μｍ和（０．２－０．２５）μｍ胶阴线条，这一工艺技术完全与有现有器件工艺技术兼容，为ＨＥＭＴ深亚微米加工提供了一个新的可供选择的方法，文中还从计算机模拟角度对上述两种移相光刻方式作 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/568]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 钱鹤,刘训春. KrF准分子激光移相光刻在HEMT栅加工中的应用[J]. 固体电子学研究与进展,1998,18(1):7，94-100. |
| APA | 钱鹤,&刘训春.(1998).KrF准分子激光移相光刻在HEMT栅加工中的应用.固体电子学研究与进展,18(1),7，94-100. |
| MLA | 钱鹤,et al."KrF准分子激光移相光刻在HEMT栅加工中的应用".固体电子学研究与进展 18.1(1998):7，94-100. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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