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切割曝光技术及其在器件研究上的应用

文献类型:期刊论文

作者陈焕章; 海潮和
刊名半导体学报
出版日期1999
卷号20期号:7页码:6,624_629
关键词Ic 切割曝光技术 制造工艺
ISSN号0253-4177
产权排序1
公开日期2010-05-25
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/574]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
推荐引用方式
GB/T 7714
陈焕章,海潮和. 切割曝光技术及其在器件研究上的应用[J]. 半导体学报,1999,20(7):6,624_629.
APA 陈焕章,&海潮和.(1999).切割曝光技术及其在器件研究上的应用.半导体学报,20(7),6,624_629.
MLA 陈焕章,et al."切割曝光技术及其在器件研究上的应用".半导体学报 20.7(1999):6,624_629.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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