X射线光刻技术研究的现状
文献类型：期刊论文
| 作者 | 叶甜春 ; 谢常青
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 3页码:5,27_31 |
| 关键词 | X射线光源 掩模 光刻胶 光刻机 Ic 半导体器件 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 目前看来，Ｘ射线光刻技术能否真正到０．１３μｍ及０．１３μｍ以下的集成电路工业中去晃刻技术工作者很关心的一个问题，分别从光源、曝光系统、掩模、光 刻胶、光刻机、光刻工艺、成本等七个方面对Ｘ射线光刻技术的现状进行了介绍，并对它的应用前景进行了简要分析。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/582]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 叶甜春,谢常青. X射线光刻技术研究的现状[J]. 微细加工技术,1999(3):5,27_31. |
| APA | 叶甜春,&谢常青.(1999).X射线光刻技术研究的现状.微细加工技术(3),5,27_31. |
| MLA | 叶甜春,et al."X射线光刻技术研究的现状".微细加工技术 .3(1999):5,27_31. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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