0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢常青 ; 伊福廷
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 3页码:4,32_34,5 |
| 关键词 | X射线光刻 分辨率 同步辐射 氮化硅薄膜 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 报道了用Ｘ射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３ＢＩＡ光刻束线获得的０．５μｍ的光刻分辨率的实验结果。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/584]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,伊福廷. 0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J]. 微细加工技术,1999(3):4,32_34,5. |
| APA | 谢常青,&伊福廷.(1999).0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术.微细加工技术(3),4,32_34,5. |
| MLA | 谢常青,et al."0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术".微细加工技术 .3(1999):4,32_34,5. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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