磁性多层膜的Ф射线光电子能谱研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 于广华; 夏洋 |
| 刊名 | 真空科学与技术
 |
| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 20期号:5页码:4，315-318 |
| 关键词 | 氧化铝 Ф射线光电子能谱 氧化镍 磁性多层膜 |
| ISSN号 | 0253-9748 |
| 英文摘要 | 用射频／直流磁控溅射法制备了ＮｉＯｘ／Ｎｉ８１Ｆｅ１９和Ｃｏ／ＡｌＯｘ／Ｃｏ磁性薄膜。利用Ｘ射线光电子能谱研究了ＮｉＯｘ对Ｎｉ８１Ｆｅ１９耦合交换场Ｈｅｘ与ＮｉＯｘ化学状态的关系以及Ｃｏ／ＡｌＯｘ／Ｃｏ磁性薄膜中ＡｌＯｘ对Ｃｏ膜的覆盖状况。结果表明：Ｈｅｘ的大小只与＋２价镍有关，单质镍和＋３价镍对Ｈｅｘ没有什么作用；在Ｃｏ／ＡｌＯｘ／Ｃｏ磁性薄膜中，Ａｌ层将Ｃｏ膜完全覆盖所需的要最小厚度为２．０ｎ |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/596]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 于广华,夏洋. 磁性多层膜的Ф射线光电子能谱研究[J]. 真空科学与技术,2000,20(5):4，315-318. |
| APA | 于广华,&夏洋.(2000).磁性多层膜的Ф射线光电子能谱研究.真空科学与技术,20(5),4，315-318. |
| MLA | 于广华,et al."磁性多层膜的Ф射线光电子能谱研究".真空科学与技术 20.5(2000):4，315-318. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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