上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢常青 ; 叶甜春
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| 刊名 | 半导体技术
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| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 25期号:1页码:3，11-13 |
| 关键词 | 同步辐射光源 X射线光刻 Liga |
| ISSN号 | 1003-353X |
| 英文摘要 | 对即将动工的上海第三代同步辐射装置及其主要参数作了介绍，叙述了目前同步辐射ｘ射一光刻和ＬＩＧＡ的一些技术进步情况，并对未来ＳＳＲＦ光刻实验珠应用前景作了简要分析。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/610]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,叶甜春. 上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用[J]. 半导体技术,2000,25(1):3，11-13. |
| APA | 谢常青,&叶甜春.(2000).上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用.半导体技术,25(1),3，11-13. |
| MLA | 谢常青,et al."上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用".半导体技术 25.1(2000):3，11-13. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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