深亚微米同步辐射x射线光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 叶甜春 ; 谢常青
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| 刊名 | 半导体情报
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| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 37期号:6页码:4，35-37,42 |
| 关键词 | X射线光刻 同步辐射 深亚微米 |
| ISSN号 | 1001-5507 |
| 英文摘要 | 报道了我们制作深亚微米ｘ射线掩模的工艺和同步辐射ｘ射线曝光工艺，并报道了我们在北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３Ｂ１Ａ光刻束线所获得的深亚微米ｘ射线光刻图形的实验结果。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/614]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 叶甜春,谢常青. 深亚微米同步辐射x射线光刻技术[J]. 半导体情报,2000,37(6):4，35-37,42. |
| APA | 叶甜春,&谢常青.(2000).深亚微米同步辐射x射线光刻技术.半导体情报,37(6),4，35-37,42. |
| MLA | 叶甜春,et al."深亚微米同步辐射x射线光刻技术".半导体情报 37.6(2000):4，35-37,42. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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