PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王云翔; 刘明
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | 2页码:4,1_4 |
| 关键词 | Prevail |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术，采用可变轴浸没透镜，对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在1mm^2子场的情况下，运用步进扫描曝光方式，在100nm临界尺寸下具有较高的产量，也EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/750]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王云翔,刘明. PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术[J]. 微细加工技术,2002(2):4,1_4. |
| APA | 王云翔,&刘明.(2002).PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术.微细加工技术(2),4,1_4. |
| MLA | 王云翔,et al."PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术".微细加工技术 .2(2002):4,1_4. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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