电子束曝光技术发展概况
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘明 ; 张建宏
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| 刊名 | 世界产品与技术
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| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | 4页码:3,27-29 |
| 关键词 | 电子束 曝光技术 微电子技术 Sem 高斯扫描系统 成型束 抗蚀剂 |
| ISSN号 | 1006-5083 |
| 产权排序 | 1 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-25 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/756]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘明,张建宏. 电子束曝光技术发展概况[J]. 世界产品与技术,2002(4):3,27-29. |
| APA | 刘明,&张建宏.(2002).电子束曝光技术发展概况.世界产品与技术(4),3,27-29. |
| MLA | 刘明,et al."电子束曝光技术发展概况".世界产品与技术 .4(2002):3,27-29. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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