深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1．0
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张菊芳; 谢常青 ; 王德强; 陈大鹏; 叶甜春; 伊福廷; 韩勇
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 4页码:27-30,35 |
| 关键词 | X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件——XLSS1．0。该软件基于面向对象技术，采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应，对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模拟计算，发现模拟结果与实验结果吻合很好，且模拟结果的特征尺寸宽度与实验结果的特征尺寸宽度误差小于±10％。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/940]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张菊芳,谢常青,王德强,等. 深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1．0[J]. 微细加工技术,2004(4):27-30,35. |
| APA | 张菊芳.,谢常青.,王德强.,陈大鹏.,叶甜春.,...&韩勇.(2004).深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1．0.微细加工技术(4),27-30,35. |
| MLA | 张菊芳,et al."深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1．0".微细加工技术 .4(2004):27-30,35. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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