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AIGaN/GaN异质结极化行为与二维电子气

文献类型:期刊论文

作者夏浑; 薛丽君; 陈宝钦; 刘明; 王燕
刊名半导体技术
出版日期2004
卷号29期号:7页码:63-65,56
关键词Aigan/gan 异质结 极化 二维电子气 2deg
ISSN号1003-353X
产权排序1
英文摘要

AIGaN/GaN异质结及其相关器件因其优越的电学特性成为近几年的研究热点。2DEG作为其特征与材料本身的极化现象关系密切。本文主要从晶体微观结构角度介绍AIGaN/GaN异质结极化现象的产生、机理和方向性,着重讨论极化对异质结界面处诱生的二维电子气的影响。极化不仅可提高2DEG的浓度,而且还能使其迁移率得到提高。

语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/986]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
夏浑,薛丽君,陈宝钦,等. AIGaN/GaN异质结极化行为与二维电子气[J]. 半导体技术,2004,29(7):63-65,56.
APA 夏浑,薛丽君,陈宝钦,刘明,&王燕.(2004).AIGaN/GaN异质结极化行为与二维电子气.半导体技术,29(7),63-65,56.
MLA 夏浑,et al."AIGaN/GaN异质结极化行为与二维电子气".半导体技术 29.7(2004):63-65,56.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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