X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王德强; 谢常青 ; 叶甜春; 刘业异; 胡松
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 2页码:17-22 |
| 关键词 | X射线光刻 对准系统 拉普拉斯算子 识别精度 对准精度 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证。采用一种新的测试方法，即先通过软件得到大量的数据，然后再进行数据分析，得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两个方面比较好，而改进后的SOBEL II算子的对准时间最短，对准精度也很高。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/988]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王德强,谢常青,叶甜春,等. X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究[J]. 微细加工技术,2004(2):17-22. |
| APA | 王德强,谢常青,叶甜春,刘业异,&胡松.(2004).X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究.微细加工技术(2),17-22. |
| MLA | 王德强,et al."X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究".微细加工技术 .2(2004):17-22. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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