用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙加兴; 叶甜春 ; 陈大鹏; 谢常青; 伊福庭
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| 刊名 | 半导体学报
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| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 25期号:3页码:358-360 |
| 关键词 | X射线光刻 Phemt T型栅 三层胶工艺 |
| ISSN号 | 0253-4177 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 采用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅，一次曝光，分步显影，基本解决了不同胶层间互融的问题．该方法制作效率高，所制作的T型栅形貌好，头脚比例可控，基本满足器件制作要求． |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1070]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙加兴,叶甜春,陈大鹏,等. 用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅[J]. 半导体学报,2004,25(3):358-360. |
| APA | 孙加兴,叶甜春,陈大鹏,谢常青,&伊福庭.(2004).用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅.半导体学报,25(3),358-360. |
| MLA | 孙加兴,et al."用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅".半导体学报 25.3(2004):358-360. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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