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SOI动态阈值MOS研究进展

文献类型:期刊论文

作者韩郑生; 海潮和; 毕津顺
刊名电子器件
出版日期2005
卷号28期号:3页码:6,551-555,558
关键词Soi 低压低功耗 Dtmos 超大规模集成电路
ISSN号1005-9490
英文摘要

随着器件尺寸的不断缩小,传统MOS器件遇到工作电压和阈值电压难以等比例缩小的难题,以至于降低电路性能,而工作在低压低功耗领域的SOI DTMOS可以有效地解决这个问题。本文介绍了四种类型的SOI DTMOS器件.其中着重论述了栅体直接连接DTMOS、双栅DTMOS和栅体肖特基接触DTMOS的工作原理和性能.具体分析了优化器件性能的五种方案,探讨了SOI DTMOS存在的优势和不足。最后指出,具有出色性能的SOI DTMOS必将在未来的移动通讯和SOC等低压低功耗电路中占有一席之地。

语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1142]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
韩郑生,海潮和,毕津顺. SOI动态阈值MOS研究进展[J]. 电子器件,2005,28(3):6,551-555,558.
APA 韩郑生,海潮和,&毕津顺.(2005).SOI动态阈值MOS研究进展.电子器件,28(3),6,551-555,558.
MLA 韩郑生,et al."SOI动态阈值MOS研究进展".电子器件 28.3(2005):6,551-555,558.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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