SOI动态阈值MOS研究进展
文献类型:期刊论文
作者 | 韩郑生![]() ![]() |
刊名 | 电子器件
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出版日期 | 2005 |
卷号 | 28期号:3页码:6,551-555,558 |
关键词 | Soi 低压低功耗 Dtmos 超大规模集成电路 |
ISSN号 | 1005-9490 |
英文摘要 | 随着器件尺寸的不断缩小,传统MOS器件遇到工作电压和阈值电压难以等比例缩小的难题,以至于降低电路性能,而工作在低压低功耗领域的SOI DTMOS可以有效地解决这个问题。本文介绍了四种类型的SOI DTMOS器件.其中着重论述了栅体直接连接DTMOS、双栅DTMOS和栅体肖特基接触DTMOS的工作原理和性能.具体分析了优化器件性能的五种方案,探讨了SOI DTMOS存在的优势和不足。最后指出,具有出色性能的SOI DTMOS必将在未来的移动通讯和SOC等低压低功耗电路中占有一席之地。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-26 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1142] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 韩郑生,海潮和,毕津顺. SOI动态阈值MOS研究进展[J]. 电子器件,2005,28(3):6,551-555,558. |
APA | 韩郑生,海潮和,&毕津顺.(2005).SOI动态阈值MOS研究进展.电子器件,28(3),6,551-555,558. |
MLA | 韩郑生,et al."SOI动态阈值MOS研究进展".电子器件 28.3(2005):6,551-555,558. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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