常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王守国; 赵玲利 |
| 刊名 | 清洗世界
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 21期号:4页码:4，33-36 |
| 关键词 | 常压等离子体 微电子 清洗 应用 |
| 英文摘要 | 介绍常压射频冷等离子体清洗设备工作原理以度在微电子工业中的应用。给出用常压冷等离子体清洗设备去除光刘胶的实验结果，简单阐述该技术将对微电子工业工艺过程带来的影响。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1150]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王守国,赵玲利. 常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用[J]. 清洗世界,2005,21(4):4，33-36. |
| APA | 王守国,&赵玲利.(2005).常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用.清洗世界,21(4),4，33-36. |
| MLA | 王守国,et al."常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用".清洗世界 21.4(2005):4，33-36. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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