193nm光刻散射条技术研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 康晓辉; 张立辉; 王德强; 范东升; 谢常青 ; 刘明
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| 刊名 | 微电子学
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 35期号:4页码:4，360-363 |
| 关键词 | 光刻 亚分辨率辅助图形 散射条 离轴照明 分辨率增强 光学临近效应校正 |
| ISSN号 | 1004-3365 |
| 英文摘要 | 介绍了193nm光刻中的散射条技术，并利用标量衍射和傅里叶光学理论，对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析，从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH，对散射条的参数进行了优化，并总结出193nm光刻中孤立线散射条的优化方法。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1164]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 康晓辉,张立辉,王德强,等. 193nm光刻散射条技术研究[J]. 微电子学,2005,35(4):4，360-363. |
| APA | 康晓辉,张立辉,王德强,范东升,谢常青,&刘明.(2005).193nm光刻散射条技术研究.微电子学,35(4),4，360-363. |
| MLA | 康晓辉,et al."193nm光刻散射条技术研究".微电子学 35.4(2005):4，360-363. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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