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RF—MBE生长的高Al势垒层AlGaN/GaNHEMT结构

文献类型:期刊论文

作者李晋闽; 曾一平; 王晓亮; 王翠梅; 胡国新; 王军喜; 刘新宇; 刘键; 冉军学; 钱鹤
刊名半导体学报
出版日期2005
卷号26期号:6页码:5,1116-1120
关键词高电子迁移率晶体管 Gan 二维电子气 Rf-mbe 功率器件
ISSN号0253-4177
英文摘要

采用RF-MBE技术,在蓝宝石衬底上生长了高Al组分势垒层AlGaN/GaNHEMT结构.用三晶X射线衍射分析得到AlGaN势垒层的Al组分约为43%,异质结构晶体质量较高,界面比较光滑.变温霍尔测量显示此结构具有良好的电学性能,室温时电子迁移率和电子浓度分别高达1246cm^2/(V·s)和1.429×10^13cm^-2,二者的乘积为1.8×10^16V^-1·s^-1.用此材料研制的器件,直流特性得到了提高,最大漏极输出电流为1.0A/mm,非本征跨导为218mS/mm.结果表明,提高AlGaN势垒层Al的组分有助于提高AlGaN/GaNHEMT结构材料的电学性能和器件性能.

语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1186]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李晋闽,曾一平,王晓亮,等. RF—MBE生长的高Al势垒层AlGaN/GaNHEMT结构[J]. 半导体学报,2005,26(6):5,1116-1120.
APA 李晋闽.,曾一平.,王晓亮.,王翠梅.,胡国新.,...&钱鹤.(2005).RF—MBE生长的高Al势垒层AlGaN/GaNHEMT结构.半导体学报,26(6),5,1116-1120.
MLA 李晋闽,et al."RF—MBE生长的高Al势垒层AlGaN/GaNHEMT结构".半导体学报 26.6(2005):5,1116-1120.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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