一种基于元胞自动机的显影模型
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘明 ; 李泠; 龙世兵; 陈宝钦
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| 刊名 | 微电子学与计算机
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 22期号:3页码:4，277-280 |
| 关键词 | 电子抗蚀剂 显影 元胞自动机 Zep520 计算机模拟 |
| ISSN号 | 1000-7180 |
| 英文摘要 | 本文利用元胞自动机的方法建立电子抗蚀剂显影模型，阐述了用该模型确立电子抗蚀剂显影后轮廓的方法．在结合相应的能量沉积模型和显影速率模型后，给出了电子抗蚀剂最终显影轮廓的模拟结果，并用ZEP520电子抗蚀剂进行实验验证。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1222]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘明,李泠,龙世兵,等. 一种基于元胞自动机的显影模型[J]. 微电子学与计算机,2005,22(3):4，277-280. |
| APA | 刘明,李泠,龙世兵,&陈宝钦.(2005).一种基于元胞自动机的显影模型.微电子学与计算机,22(3),4，277-280. |
| MLA | 刘明,et al."一种基于元胞自动机的显影模型".微电子学与计算机 22.3(2005):4，277-280. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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