X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 叶甜春 ; 胡松; 刘业异; 王德强; 谢常青; 陈大鹏
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| 刊名 | 电子工业专用设备
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 34期号:2页码:5，22-25,32 |
| 关键词 | X射线光刻 |
| ISSN号 | 1004-4507 |
| 英文摘要 | 作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术——同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻，高精度对准技术对XRL至关重要，直接影响到后续器件的生产质量。目前国内的XRL对准系统主要采用CCD相机和显微物镜采集图像，经过计算机图像处理程序进行自动对准；图像边缘分辨是图像处理部分的关键，直接决定了对准精度。针对3种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的研究，并且初步设计了几种对准标记。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1238]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 叶甜春,胡松,刘业异,等. X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究[J]. 电子工业专用设备,2005,34(2):5，22-25,32. |
| APA | 叶甜春,胡松,刘业异,王德强,谢常青,&陈大鹏.(2005).X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究.电子工业专用设备,34(2),5，22-25,32. |
| MLA | 叶甜春,et al."X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究".电子工业专用设备 34.2(2005):5，22-25,32. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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