高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术
文献类型:期刊论文
作者 | 刘明![]() ![]() ![]() ![]() |
刊名 | 半导体技术
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出版日期 | 2005 |
卷号 | 30期号:1页码:5,13-17 |
关键词 | 等离子体诊断技术 朗格谬尔探针 发射光谱法:激光诱导荧光法 光谱椭偏法 质谱法 |
ISSN号 | 1003-353X |
英文摘要 | 等离子体诊断技术对于高密度等离子刻蚀过程的监控显得非常重要。讨论了几种主要的等离子体诊断技术:langmuir探针,发射光谱法(OES),激光诱导荧光法(LIF),光谱椭偏法,质谱法,并就其技术特点及在实际运用时面临的问题进行了详细的讨论。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-26 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1248] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘明,王巍,叶甜春,等. 高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术[J]. 半导体技术,2005,30(1):5,13-17. |
APA | 刘明,王巍,叶甜春,李兵,&陈大鹏.(2005).高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术.半导体技术,30(1),5,13-17. |
MLA | 刘明,et al."高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术".半导体技术 30.1(2005):5,13-17. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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