光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈宝钦 ; 刘明; 徐秋霞; 薛丽君; 李金儒; 汤跃科; 赵珉; 刘珠明; 王德强; 任黎明
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| 刊名 | 半导体学报
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 27期号:增刊页码:1-6 |
| 关键词 | 微光刻技术 微纳米加工技术 电子束直写 匹配与混合光刻技术 |
| ISSN号 | 0253-4177 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-26 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1288]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈宝钦,刘明,徐秋霞,等. 光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术[J]. 半导体学报,2006,27(增刊):1-6. |
| APA | 陈宝钦.,刘明.,徐秋霞.,薛丽君.,李金儒.,...&牛洁斌.(2006).光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术.半导体学报,27(增刊),1-6. |
| MLA | 陈宝钦,et al."光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术".半导体学报 27.增刊(2006):1-6. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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