功率RF LDMOS的关键参数研究
文献类型:期刊论文
作者 | 李科; 黄晓兰; 吴德馨![]() ![]() |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2006 |
卷号 | 27期号:增刊页码:266-270 |
关键词 | Rf Ldmos 击穿电压 截止频率 多晶硅氧化 |
ISSN号 | 0253-4177 |
产权排序 | 1 |
英文摘要 | 在功率RF LDMOS器件中,击穿电压、截止频率fT和导通电阻Ron是器件性能的关键参数,为提高这几个器件性能参数可采取的各种措施又往往是互相矛盾和相互制约的.文中研究了几个关键参数之间的关系和优化方案,以及国际上在这方面所开展的研究和取得的进展,为进一步的研究和探索提供参考. |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-26 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1298] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李科,黄晓兰,吴德馨,等. 功率RF LDMOS的关键参数研究[J]. 半导体学报,2006,27(增刊):266-270. |
APA | 李科,黄晓兰,吴德馨,张耀辉,&王立新.(2006).功率RF LDMOS的关键参数研究.半导体学报,27(增刊),266-270. |
MLA | 李科,et al."功率RF LDMOS的关键参数研究".半导体学报 27.增刊(2006):266-270. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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