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高性能1mmSiC基AIGaN/GaN功率HEMT研制

文献类型:期刊论文

作者王晓亮; 罗卫军; 陈晓娟; 李成瞻; 刘新宇; 和致经; 魏珂; 梁晓新
刊名半导体学报
出版日期2006
卷号27期号:11页码:1981-1983
关键词Algan/gan 高电子迁移率晶体管 微波功率 功率增益
ISSN号0253-4177
产权排序1
英文摘要

在6H-SiC衬底上,外延生长了AlGaN/GaNHEMT结构,设计并实现了高性能1mmAlGaN/GaN微波功率HEMT,外延材料利用金属有机物化学气相淀积技术生长.测试表明,该1mm栅宽器件栅长为0.8,um,输出电流密度达到1.16A/mm,跨导为241mS/mm,击穿电压〉80V,特征频率达到20GHz,最大振荡频率为28GHz.5.4GHz连续波测试下功率增益为14.2dB,输出功率达4.1W,脉冲条件测试下功率增益为14.4dB,输出功率为5.2W,两端口阻抗特性显示了在微波应用中的良好潜力.

语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1340]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王晓亮,罗卫军,陈晓娟,等. 高性能1mmSiC基AIGaN/GaN功率HEMT研制[J]. 半导体学报,2006,27(11):1981-1983.
APA 王晓亮.,罗卫军.,陈晓娟.,李成瞻.,刘新宇.,...&梁晓新.(2006).高性能1mmSiC基AIGaN/GaN功率HEMT研制.半导体学报,27(11),1981-1983.
MLA 王晓亮,et al."高性能1mmSiC基AIGaN/GaN功率HEMT研制".半导体学报 27.11(2006):1981-1983.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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