SOI反偏肖特基势垒动态阈值MOS特性
文献类型:期刊论文
作者 | 毕津顺; 海潮和 |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2006 |
卷号 | 27期号:9页码:1526-1530 |
关键词 | Soi 动态阔值 肖特基势垒 |
ISSN号 | 0253-4177 |
产权排序 | 1 |
英文摘要 | 将Ti硅化物-p型体区形成的反偏肖特基势垒结构引入绝缘体上硅动态阈值晶体管.传统栅体直接连接DTMOS,为了避免体源二极管的正向开启,工作电压应当低于0.7V.而采用反偏肖特基势垒结构,DTMOS的工作电压可以拓展到0.7V以上.实验结果显示,室温下采用反偏肖特基势垒SOI DTMOS结构,阈值电压可以动态减小200mV.反偏肖特基势垒SOI DTMOS结构相比于传统模式,显示出优秀的亚阈值特性和电流驱动能力.另外,对浮体SOI器件、传统模式SOI器件和反偏肖特基势垒SOI DTMOS的关态击穿特性进行了比较. |
公开日期 | 2010-05-26 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1368] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 毕津顺,海潮和. SOI反偏肖特基势垒动态阈值MOS特性[J]. 半导体学报,2006,27(9):1526-1530. |
APA | 毕津顺,&海潮和.(2006).SOI反偏肖特基势垒动态阈值MOS特性.半导体学报,27(9),1526-1530. |
MLA | 毕津顺,et al."SOI反偏肖特基势垒动态阈值MOS特性".半导体学报 27.9(2006):1526-1530. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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