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MEMS中的簿膜制造技术

文献类型:期刊论文

作者董立军; 陈大鹏; 欧毅; 黄钦文; 石莎莉; 焦斌斌; 李超波; 杨清华; 叶甜春
刊名电子工业专用设备
出版日期2006
卷号35期号:1页码:39-42
关键词微机电系统 薄膜淀积 Pvd Cvd 电镀 物理淀积
ISSN号1004-4507
产权排序1
英文摘要

追述了薄膜淀积技术的历史,按照制备手段对MEMS制造中使用的各种薄膜制造技术进行了大致的分类和对比,介绍了相应的理论研究概况,除了电镀技术之外,MEMS技术基本来自传统的IC制造工艺。

语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1454]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
董立军,陈大鹏,欧毅,等. MEMS中的簿膜制造技术[J]. 电子工业专用设备,2006,35(1):39-42.
APA 董立军.,陈大鹏.,欧毅.,黄钦文.,石莎莉.,...&叶甜春.(2006).MEMS中的簿膜制造技术.电子工业专用设备,35(1),39-42.
MLA 董立军,et al."MEMS中的簿膜制造技术".电子工业专用设备 35.1(2006):39-42.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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