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LCoS芯片p-n结光生电流理论分析

文献类型:期刊论文

作者欧毅; 李大勇; 刘明
刊名液晶与显示
出版日期2006
卷号21期号:1页码:24-28
关键词Lcos P-n结 光生漏电流 挡光层
ISSN号1007-2780
产权排序1
英文摘要

LCoS中像素有源驱动电路受到光照后会在p-n结上产生光生漏电流,而光生漏电流的产生会引起LCoS的图像对比度退化,直接影响其成像质量。从光学和半导体器件物理两方面出发,分析了光生漏电流的产生机理,指出了影响漏电流大小的主要因素是入射光功率和挡光层的厚度。以Al膜作为挡光层材料,实际测量了不同厚度Al膜在可见光范围内的反射率,并在测量数据的基础上分别计算了不同情况下的光生电流的大小。当Al膜厚度为50nm时,光生电流最大仅为5.15×10^-10A,可以抑制光生漏电流的产生,满足了LCoS的实际使用时的要求。

语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1460]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
欧毅,李大勇,刘明. LCoS芯片p-n结光生电流理论分析[J]. 液晶与显示,2006,21(1):24-28.
APA 欧毅,李大勇,&刘明.(2006).LCoS芯片p-n结光生电流理论分析.液晶与显示,21(1),24-28.
MLA 欧毅,et al."LCoS芯片p-n结光生电流理论分析".液晶与显示 21.1(2006):24-28.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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