LCoS芯片p-n结光生电流理论分析
文献类型:期刊论文
作者 | 欧毅![]() ![]() |
刊名 | 液晶与显示
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出版日期 | 2006 |
卷号 | 21期号:1页码:24-28 |
关键词 | Lcos P-n结 光生漏电流 挡光层 |
ISSN号 | 1007-2780 |
产权排序 | 1 |
英文摘要 | LCoS中像素有源驱动电路受到光照后会在p-n结上产生光生漏电流,而光生漏电流的产生会引起LCoS的图像对比度退化,直接影响其成像质量。从光学和半导体器件物理两方面出发,分析了光生漏电流的产生机理,指出了影响漏电流大小的主要因素是入射光功率和挡光层的厚度。以Al膜作为挡光层材料,实际测量了不同厚度Al膜在可见光范围内的反射率,并在测量数据的基础上分别计算了不同情况下的光生电流的大小。当Al膜厚度为50nm时,光生电流最大仅为5.15×10^-10A,可以抑制光生漏电流的产生,满足了LCoS的实际使用时的要求。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-26 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1460] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 欧毅,李大勇,刘明. LCoS芯片p-n结光生电流理论分析[J]. 液晶与显示,2006,21(1):24-28. |
APA | 欧毅,李大勇,&刘明.(2006).LCoS芯片p-n结光生电流理论分析.液晶与显示,21(1),24-28. |
MLA | 欧毅,et al."LCoS芯片p-n结光生电流理论分析".液晶与显示 21.1(2006):24-28. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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