一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法
文献类型:期刊论文
作者 | 刘训春; 刘亮; 张海英; 尹军舰; 李潇; 徐静波; 宋雨竹 |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2007 |
卷号 | 28期号:11页码:6,1706_1711 |
关键词 | Inp ingaas/Inp 复合沟道 高电子迁移率晶体 模拟 |
ISSN号 | 0253-4177 |
产权排序 | 1 |
英文摘要 | 采用一种新方法对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了模拟.该方法通过流体力学模型和密度梯度模型的联合求解,得到了沟道内的电子密度分布.与一些传统方法相比,该方法收敛性更好,速度更快,且同样适用于其他类型高电子迁移率晶体管器件的模拟.利用仿真对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了深入研究. |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-26 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1612] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘训春,刘亮,张海英,等. 一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法[J]. 半导体学报,2007,28(11):6,1706_1711. |
APA | 刘训春.,刘亮.,张海英.,尹军舰.,李潇.,...&宋雨竹.(2007).一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法.半导体学报,28(11),6,1706_1711. |
MLA | 刘训春,et al."一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法".半导体学报 28.11(2007):6,1706_1711. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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