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一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法

文献类型:期刊论文

作者刘训春; 刘亮; 张海英; 尹军舰; 李潇; 徐静波; 宋雨竹
刊名半导体学报
出版日期2007
卷号28期号:11页码:6,1706_1711
关键词Inp ingaas/Inp 复合沟道 高电子迁移率晶体 模拟
ISSN号0253-4177
产权排序1
英文摘要采用一种新方法对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了模拟.该方法通过流体力学模型和密度梯度模型的联合求解,得到了沟道内的电子密度分布.与一些传统方法相比,该方法收敛性更好,速度更快,且同样适用于其他类型高电子迁移率晶体管器件的模拟.利用仿真对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了深入研究.
语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1612]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
推荐引用方式
GB/T 7714
刘训春,刘亮,张海英,等. 一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法[J]. 半导体学报,2007,28(11):6,1706_1711.
APA 刘训春.,刘亮.,张海英.,尹军舰.,李潇.,...&宋雨竹.(2007).一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法.半导体学报,28(11),6,1706_1711.
MLA 刘训春,et al."一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法".半导体学报 28.11(2007):6,1706_1711.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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