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N-LDMOS热载流子注入效应的分析和优化

文献类型:期刊论文

作者王晓慧; 王文博; 宋李梅; 杜寰; 孙贵鹏
刊名电子器件
出版日期2007
卷号30期号:4页码:4,1129_1132
关键词Ldmos 热载流子注入 可靠性
ISSN号1005-9490
产权排序1
英文摘要研究了一种N-LDMOS器件的热载流子注入效应,分析了热载流子效应产生的机理、对器件性能以及可靠性的影响,提出了改进方法.为了降低此器件的热载流子注入效应,我们利用华润上华公司提供的ISE软件对N-LDMOS高压工艺进行模拟,根据模拟结果调整了器件结构,通过增大器件的场板长度、漂移区长度以及增加N阱与有源区的交叠长度等措施,使得相同偏置条件下,表征热载流子注入强度的物理量——器件衬底电流降为改进前的1/10,显著改善了该器件的热载流子注入效应.
语种中文
公开日期2010-05-26
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1628]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
推荐引用方式
GB/T 7714
王晓慧,王文博,宋李梅,等. N-LDMOS热载流子注入效应的分析和优化[J]. 电子器件,2007,30(4):4,1129_1132.
APA 王晓慧,王文博,宋李梅,杜寰,&孙贵鹏.(2007).N-LDMOS热载流子注入效应的分析和优化.电子器件,30(4),4,1129_1132.
MLA 王晓慧,et al."N-LDMOS热载流子注入效应的分析和优化".电子器件 30.4(2007):4,1129_1132.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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