LDD结构参数对多晶硅薄膜晶体管热载流子退化的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 吕志娟; 韩郑生![]() |
刊名 | 液晶与显示
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出版日期 | 2008 |
卷号 | 23期号:6页码:4,692-695 |
关键词 | 多晶硅薄膜晶体管 热载流子退化 Medici Tsuprem4 |
ISSN号 | 1007-2780 |
英文摘要 | 基于Tsuprem4和Medici模拟软件,研究了LDD结构对多晶硅薄膜晶体管热载流子退化的影响。计算结果表明当栅氧层厚度tox=0.07μm时,碰撞离化产生率和热电子注入电流峰值将达到最大,扩展区掺杂浓度增加,使沟道中横向电场和碰撞离化产生率的峰值分布区域向着栅电极的方向移动,即在应力作用下,热载流子退化的区域向着栅电极的方向漂移。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-27 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1770] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕志娟,韩郑生,钟传杰. LDD结构参数对多晶硅薄膜晶体管热载流子退化的影响[J]. 液晶与显示,2008,23(6):4,692-695. |
APA | 吕志娟,韩郑生,&钟传杰.(2008).LDD结构参数对多晶硅薄膜晶体管热载流子退化的影响.液晶与显示,23(6),4,692-695. |
MLA | 吕志娟,et al."LDD结构参数对多晶硅薄膜晶体管热载流子退化的影响".液晶与显示 23.6(2008):4,692-695. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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