中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
RF PDSOI LDMOS器件的电离总剂量辐照效应

文献类型:期刊论文

作者刘梦新; 韩郑生; 毕津顺; 范雪梅; 刘刚; 杜寰; 宋李梅
刊名半导体学报
出版日期2008
卷号29期号:11页码:6,2158-2163
关键词部分耗尽
ISSN号0253-4177
英文摘要

研制了一种用于射频领域的叉指栅PDSOI LDMOS晶体管,并分析了总剂量辐照对其静态和小信号射频特性的影响.其静态工作模式下的辐照响应由前/背栅阈值、泄漏电流、跨导和输出特性表征,而其交流工作模式下的辐照响应由截止频率和最高振荡频率表征.实验表明,在室温环境下经过总剂量为1Mrad(Si)的γ射线辐照,不同尺寸和结构的射频SOI LDMOS晶体管的各项指标均表现出明显退化,并且仅当器件工作在静态模式时LBBC LDMOS才表现出优于BTS LDMOS的抗辐照性能.

语种中文
公开日期2010-05-27
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1804]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘梦新,韩郑生,毕津顺,等. RF PDSOI LDMOS器件的电离总剂量辐照效应[J]. 半导体学报,2008,29(11):6,2158-2163.
APA 刘梦新.,韩郑生.,毕津顺.,范雪梅.,刘刚.,...&宋李梅.(2008).RF PDSOI LDMOS器件的电离总剂量辐照效应.半导体学报,29(11),6,2158-2163.
MLA 刘梦新,et al."RF PDSOI LDMOS器件的电离总剂量辐照效应".半导体学报 29.11(2008):6,2158-2163.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。