电子束光刻制备5000 line／mm光栅掩模关键技术研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱效立 ; 谢常青; 赵珉; 陈宝钦; 叶甜春; 牛洁斌; 张庆钊; 刘明
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2008 |
| 期号 | 4页码:3，4-5,13 |
| 关键词 | 电子束光刻 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 英文摘要 | 为了制备高线密度X射线透射光栅掩模，分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响；利用几何校正技术和低灵敏度的950k的PMMA电子束抗蚀剂，克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响。采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5000 line／mm X射线透射光栅的掩模，并将栅线宽度精确控制在100nm～110nm，为X射线光刻复制高线密度X射线透射光栅创造了有利条件。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-05-27 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1820]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱效立,谢常青,赵珉,等. 电子束光刻制备5000 line／mm光栅掩模关键技术研究[J]. 微细加工技术,2008(4):3，4-5,13. |
| APA | 朱效立.,谢常青.,赵珉.,陈宝钦.,叶甜春.,...&刘明.(2008).电子束光刻制备5000 line／mm光栅掩模关键技术研究.微细加工技术(4),3，4-5,13. |
| MLA | 朱效立,et al."电子束光刻制备5000 line／mm光栅掩模关键技术研究".微细加工技术 .4(2008):3，4-5,13. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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