一种利用多层侧墙技术制备纳米压印模版的方法，其工艺步骤如 下：1.在透光基片上淀积一层结构薄膜；2.淀积另外一种材料作为第 二层结构薄膜；3.4.采用化学机械 平坦化或研磨等方法抛光基片表面，得到由第一种与第二种结构材料交 替组成的侧墙阵列；5.选择腐蚀或刻蚀两种结构材料的侧墙，形成纳米 压印模版。