本发明属于微电子学与纳米电子学中的微纳加工领域，特别涉及一 种紫外固化纳米压印模版的制备。其工艺步骤如下：1.在透光基片上 淀积一层易于刻蚀的薄膜；2.旋涂抗蚀剂；3.淀积一层导电薄膜；4. 光刻、显影得到模版图形；5.以抗蚀剂做掩蔽刻蚀第一层薄膜材料，将 模版图形转移到薄膜上；6.去除残余抗蚀剂，完成紫外固化纳米压印模 版。