基于自组装技术的交叉阵列结构有机器件制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 姬濯宇 ; 涂德钰; 胡文平; 刘明; 王丛舜
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| 发表日期 | 2008-07-02 |
| 专利号 | CN200510109338.1 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 一种交叉线阵列结构有机分子器件的制备方法，其工艺步骤如下： 1.在基片表面上淀积绝缘薄膜；2.在绝缘薄膜表面上旋涂抗蚀剂，光 刻得到下电极图形；3.蒸发、剥离金属得到交叉线下电极；4.旋涂抗 蚀剂，光刻得到与下电极交叉的上电极图形；5.蒸发、剥离金属得到上 电极；6.液相法自组织生长有机分子材料；7.干法刻蚀多余的有机分 子材料，完成交叉线有机分子器件的制备。 |
| 公开日期 | 2007-04-18 |
| 申请日期 | 2005-10-13 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7274]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 姬濯宇,涂德钰,胡文平,等. 基于自组装技术的交叉阵列结构有机器件制备方法. CN200510109338.1. 2008-07-02. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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