平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构
文献类型：专利
| 作者 | 周宗义; 张永利; 王佳; 张育胜; 李兵; 刘训春 |
| 发表日期 | 2007-12-26 |
| 专利号 | CN101469414 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明一种平板式等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备的反应 室结构，涉及微电子技术，是由内真空室与外腔室嵌套组成；内真空室上 段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室连接；内真空室上段的顶壁外 侧通过螺杆与外腔室顶面的堵转电机连接，以堵转电机控制内真空室上段 的升降；内真空室的工作压强高于外腔室。反应室内真空室中的载片盘与 内真空室下段的侧壁不接触，避免载片台上的热量向外壁传导，以便载片 台可以很快加热到很高的温度。本发明的反应室结构可以避免系统漏气的 影响，明显地改善淀积薄膜的质量，降低粉尘；有利于提高衬底温度和新 材料的生长。 |
| 公开日期 | 2009-07-01 ; 2010-11-26 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 公开 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7648]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周宗义,张永利,王佳,等. 平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构. CN101469414. 2007-12-26. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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