管状栅电极垂直沟道有机场效应晶体管及其制备方法
文献类型:专利
作者 | 涂德钰; 商立伟![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2011-04-06 |
专利号 | CN200810227455.1 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明公开了管状栅电极垂直沟道有机场效应晶体管,属于有机微电子学领域。 该器件包括绝缘衬底上的源电极、介质层、半导体层、管状栅电极以及金属漏电极。 其中器件的栅电极为管状,包裹在中心区的有机半导体层外围。栅电极和有机半导体 层之间通过栅介质互相隔离开。源电极和漏电极均为平面电极,分别位于器件的底部 和顶部,通过介质层和栅电极分离。本发明提供的器件结构通过把沟道方向从水平转 变为垂直,只需要控制薄膜的生长厚度就能够有效控制器件的沟道长度,避免了昂贵 的电子束光刻,是一种低成本的短沟道有机场效应晶体管。同时本发明还提供了这种 器件的制备方法。 |
公开日期 | 2009-06-03 |
申请日期 | 2008-11-25 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7706] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 涂德钰,商立伟,刘明,等. 管状栅电极垂直沟道有机场效应晶体管及其制备方法. CN200810227455.1. 2011-04-06. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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