一种纳米级沟道有机场效应晶体管及其制备方法
文献类型:专利
作者 | 刘舸; 刘兴华![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2010-08-11 |
专利号 | CN200810227456.6 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明属于有机电子技术领域,特别涉及一种纳米级沟道有机场效应晶体 管及其制备方法。为了克服现有技术中成本高的缺陷,本发明提供一种纳米级 沟道有机场效应晶体管,包括绝缘衬底上的源电极、绝缘层、漏电极、有机半 导体层、栅介质层和栅电极,所述源电极、有机半导体层、栅介质层和栅电极 从左至右依次设置在绝缘衬底的上表面上;所述源电极上方从下到上依次设有 绝缘层和漏电极,分别与有机半导体层接触;所述源电极、绝缘层和漏电极合 起来的厚度与有机半导体层、栅介质层和栅电极的厚度相同。本发明通过控制 绝缘层的厚度来控制器件的沟道长度,避免了昂贵的电子束光刻,大幅度地降 低制备纳米级沟道有机晶体管的难度,从而减少了制备的成本。 |
公开日期 | 2009-05-06 |
申请日期 | 2008-11-25 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7832] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘舸,刘兴华,商立伟,等. 一种纳米级沟道有机场效应晶体管及其制备方法. CN200810227456.6. 2010-08-11. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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