中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
一种纳米级沟道有机场效应晶体管及其制备方法

文献类型:专利

作者刘舸; 刘兴华; 商立伟; 涂德钰; 刘明
发表日期2010-08-11
专利号CN200810227456.6
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明属于有机电子技术领域,特别涉及一种纳米级沟道有机场效应晶体 管及其制备方法。为了克服现有技术中成本高的缺陷,本发明提供一种纳米级 沟道有机场效应晶体管,包括绝缘衬底上的源电极、绝缘层、漏电极、有机半 导体层、栅介质层和栅电极,所述源电极、有机半导体层、栅介质层和栅电极 从左至右依次设置在绝缘衬底的上表面上;所述源电极上方从下到上依次设有 绝缘层和漏电极,分别与有机半导体层接触;所述源电极、绝缘层和漏电极合 起来的厚度与有机半导体层、栅介质层和栅电极的厚度相同。本发明通过控制 绝缘层的厚度来控制器件的沟道长度,避免了昂贵的电子束光刻,大幅度地降 低制备纳米级沟道有机晶体管的难度,从而减少了制备的成本。

公开日期2009-05-06
申请日期2008-11-25
语种中文
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/7832]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘舸,刘兴华,商立伟,等. 一种纳米级沟道有机场效应晶体管及其制备方法. CN200810227456.6. 2010-08-11.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。